科目詳細情報 / Course Syllabus
| 科目分類 / Subject Categories | |||||||
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| 学部等 / Faculty | 大学院工芸科学研究科（博士後期課程） / Graduate School of Science and Technology (Doctoral Programs) | 今年度開講 / Availability | 有 / Available | ||||
| 学域等 / Field | ＜その他＞ / <Other> | 年次 / Year | １～３年次 / 1st through 3rd Year | ||||
| 課程等 / Program | 専攻共通科目 / Program-wide Subjects | 学期 / Semester | 第3ｸｫｰﾀ / Third quarter | ||||
| 分類 / Category | 授業科目 / Courses | 曜日時限 / Day & Period | 集中 / Intensive course | ||||
| 科目情報 / Course Information | |||||
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| 時間割番号 / Timetable Number | 84119904 | ||||
| 科目番号 / Course Number | 84160100 | ||||
| 単位数 / Credits | 2 | ||||
| 授業形態 / Course Type | 講義 / Lecture | ||||
| 授業科目名 / Course Title | リーガルデザイン特論 / Legal design, advanced | ||||
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担当教員名 Instructor(s) |
日髙 一樹、(大西 雅直) | ||||
| HIDAKA Kazuki、(ONISHI Masanao) | |||||
| その他 / Other | インターンシップ実施科目 Internship |
国際科学技術コース提供科目 IGP |
PBL実施科目 Project Based Learning |
実務経験のある教員による科目 Practical Teacher |
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| - | - | - | ○（弁理士、特定訴訟代理人として知財契約実務、知財裁判、ビジネス計画における知財などの指導経験から講義を行う。） | ||
| DX活用科目 ICT Usage in Learning |
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| 科目ナンバリング / Numbering Code | D_PS7230 | ||||
| 授業の目的・概要 Objectives and Outline of the Course |
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| 概要 本講義では、実践的な知的財産権マネジメントの方法論を総合的に身につけることを目指す。具体的には、以下の事項を学ぶ。 (1) 技術やデザインを製品化等する上で必要な知的財産権等の基本的な知識の習得。 (2) 産業財産権の情報の検索方法の習得。 (3) それら情報を開発過程で活用する実践的方法の習得。 (4) ビジネスに必要な知的財産権に関するライセンス等契約の要件の習得。 これらの習得により技術やデザインの研究等成果を社会実装可能な人材の育成を目的とする。本講義は弁理士により行う。 |
| Outline In this lecture, we aim to comprehensively acquire practical methods of intellectual property rights management. Specifically, learn the following matters. (1) Learning basic knowledge of intellectual property rights etc. necessary for commercialization of technology and design. (2) Learning how to retrieve information on industrial property rights. (3) Learning practical methods of utilizing information on industrial property rights in the development process (4) Learning licensing agreement requirements for intellectual property rights necessary for business. Through these acquisitions, we aim to nurture personnel capable of social implementation of research results in technology and design. This lecture is given by a patent attorney. |
| 学習の到達目標 Learning Objectives |
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| 1．知的財産権の経済社会における歴史、現在及び将来的役割意義を理解する。 2．知的財産権の基礎を理解する。 3．産業財産権の基本的手続きを理解する。 4．産業財産権の検索ができるようになる。 5．著作権の基礎を理解する。 6．不正競争防止法等開発に関連する必要な法規を理解する。 7．開発における知的財産権の戦略立案の方法論を理解する。 8． 知的財産権に関わる契約の基本を理解する。 9． ビジネスにおける知的財産権戦略立案の基本要素を理解する。 10．AI活用における知的財産権の注意点を理解する。 |
| 1．You will understand the significance of the history, present and future role of intellectual property rights in economic society. 2． You will understand the foundation of intellectual property rights. 3．You will understand the basic procedures of industrial property rights. 4． You will be able to search for industrial property rights. 5．You will understand the basis of copyright. 6．You will understand the laws and regulations related to development, such as Unfair Competition Prevention Law. 7． You will understand the methodology of strategic planning of intellectual property rights in development. 8． You will understand the basics of contracts related to intellectual property rights. 9．(9) You will understand the basic elements of strategic planning of intellectual property rights in business 10．You will understand the important points regarding intellectual property rights when using AI. |
| 授業計画項目 / Course Plan | |||
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| No. | 項目 Topics |
内容 Content |
オンライン授業 online class |
| 1. | 知的財産権イントロダクション | 知的財産権の歴史と現在及び将来的意義を学ぶ。個人、企業、経済社会における知的財産権の位置付けと活用方法を学ぶ。 |
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| Introduction to intellectual property rights | History of intellectual property rights and current and future significance. Positioning and utilization of intellectual property rights in individuals, companies and economic society. |
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| 2. | 知的財産権の基礎的知識 | 特許、実用新案、意匠、商標、著作権、不正競争防止法、肖像権、パブリシティ権、製造物責任法などの概論。 |
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| Basic knowledge of intellectual property rights | Introduction to patents, utility models, designs, trademarks, copyrights, unfair competition prevention law, portrait rights, publicity rights, product liability law | ||
| 3. | 特許法、実用新案権法（１） | 保護対象である発明（考案）の把握。特許性（登録可能性）の判断。出願から特許（登録）までの手続き。特許権（実用新案権）の効力。 |
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| Patent Act, Utility Model Act | Understanding of inventions (device) to be protected. Judgment of patentability (possibility of registration). Procedure from application to patent (registration). Effect of patent right (utility model right). |
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| 4. | 特許法、実用新案権法（２） | 保護対象である発明（考案）の把握。特許性（登録可能性）の判断。出願から特許（登録）までの手続き。特許権（実用新案権）の効力。 |
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| Patent Act, Utility Model Act | Understanding of inventions (device) to be protected. Judgment of patentability (possibility of registration). Procedure from application to patent (registration). Effect of patent right (utility model right). |
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| 5. | 意匠法 | 保護対象である意匠の把握。登録可能性の判断。出願から登録までの手続。意匠権の効力。 | |
| Design Act | Understanding of designs to be protected. Judgment of possibility of registration. Procedure from application to registration. Effect of design right. |
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| 6. | 商標法 | 保護対象である商標の把握。登録可能性の判断。出願から登録までの手続。商標権の効力。 |
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| Trademark Act | Understanding of trademark to be protected. Judgment of possibility of registration. Procedure from application to registration. Effect of trademark right. |
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| 7. | 著作権法 | 発生要因。保護対象である著作物の把握。著作権（財産権）、著作者人格権、著作隣接権。 |
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| Copyright Act | Requirements for copyright generation. Understanding of copyright to be protected. Copyright (property rights), author's moral rights, and neighboring rights. | ||
| 8. | 知的財産に関する条約、外国特許制度 | 各種の条約、各国の特許制度（米国、欧州、中国、東南アジア） | |
| Treaty on intellectual property, foreign patent system | Various treaties, patent system in foreign countries (USA, Europe, China, and Southeast Asia). |
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| 9. | 産業財産権の検索演習（特許） | 検索の意義（先行技術調査、実施可否調査、無効資料調査）、検索ツールJ-Plat-Patの使用方法。 |
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| Exercise for searching industrial property rights (Patent) | Significance of search (prior art search, possibility of implement search, and invalid materials search), and method how to use search tool J-Plat-Pat. |
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| 10. | 産業財産権の検索演習（意匠、商標） | 検索の意義（先行技術調査、実施可否調査、無効資料調査）、検索ツールJ-Plat-Patの使用方法。 |
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| Exercise for searching industrial property rights (Design, Trademark) | Significance of search (prior art search, possibility of implement search, and invalid materials search), and method how to use search tool J-Plat-Pat. |
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| 11. | 周辺法 | 不正競争防止法。製造物責任法と特許法との関係。商品表示法と特許法との関係。 | |
| Relevant law | Unfair Competition Prevention Act. Relationship between Product Liability Act and Patent Act. Relationship between Act against Unjustifiable Premiums and Misleading Representations and Patent Act. |
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| 12. | 知的財産権戦略マネジメント | 権利化とノウハウ（オープン／クローズ戦略）、先使用権の確保、特許と意匠の並願。 | |
| Intellectual property strategy management | Right or know-how (open/closed strategy), secure prior use rights, and parallel protection by patent and design. Learn about issues related to AI intellectual property rights. |
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| 13. | 商品戦略と知的財産権戦略（権利マップなど使用方法） | パテントマップの使用方法（他社動向の把握、参入障壁の形成）。 | |
| Product strategy and intellectual property strategy | Method how to use patent map (understanding other company trend and formation of entry barriers). |
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| 14. | 知的財産権契約考え方 | これまでに学んだ知的財産権の特性とその対象内容を基礎に、ビジネス目的を考慮してどのような要素から契約を考えていくのかを学ぶ。 | |
| Approach to intellectual property rights contract | Based on the characteristics and contents of the intellectual property right learned so far, learn what factors should be considered in the contract considering the project purpose. | ||
| 15. | 知的財産権契約考え方、事例演習 | 具体的事案からシミュレーションを行い知的財産権から生じる契約リスクや効果などを学ぶ。AIの知的財産権に関する問題点等を学ぶ。 | |
| Approach to intellectual property rights contract - Case study | Simulate from concrete cases and learn contract risks and effects arising from intellectual property rights.Learn about issues related to AI intellectual property rights. | ||
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授業時間外学習（予習・復習等） Required study time, Preparation and review |
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| 全レポートの提出が単位取得の前提． 引用に関する留意点 ・レポート作成時、他人の文章を引用する際は、引用箇所が明確にわかるように記載すると共に、出典を記載すること。また、度を超えた引用は慎むこと。 ・引用部分は誤字も含めて改変しないこと。 ・実験や調査結果のデータを、捏造や改ざんしないこと。 本学では1単位当たりの学修時間を45時間としています。毎回の授業にあわせて事前学修・事後学修を行ってください。 |
| Submission of all the requested reports is prerequisite to evaluation. Notes on citation · When quoting a sentence of another person at the time of report creation, please describe the citation part so that it is clearly understood, and list the citation. Also refrain from quoting exceeding degrees. · Do not modify quoted parts including misspellings. · Do not forge or alter data of experiments or survey results. Please note that KIT requires 45 hours of study from students to award one credit, including both in-class instructions as well as study outside classes. Students are required to prepare for each class and complete the review after each class. |
| 教科書／参考書 Textbooks/Reference Books |
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| ・教科書「知的財産権制度入門」（特許庁編）※講義の際に配布します。 ・プリント配布 |
| · Textbook "Intellectual property rights system introduction" (edited by the Patent Office) * We will distribute it at the lecture. · Print distribution |
| 成績評価の方法及び基準 Grading Policy |
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| 小テスト(2回程度)(30%)、レポート(4通程度)(70%) 出席日数を勘案する。 授業時限全体の１／３以上の時限を欠席した場合は、成績評価対象外とする。 |
| You will be evaluated based on quizzes (approximately 2 quizzes) (30%) and reports (approximately 4 reports) (70%).The number of days attended will be considered in the evaluation. If a student is absent for more than 1/3 of the class period, they will not be considered for grade evaluation. |
| 留意事項等 Point to consider |
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| ①授業の出欠などの連絡は、学生課にしてください。 その他授業に関する事項は、下記の時限の担当教員に連絡してください。 ②日高先生の連絡先：jt8k-hdk@asahi-net.or.jp ③大西先生の連絡先：0024@o-pat.jp |
| (1) Contact the Student Affairs Division for class attendance and other correspondence. For other matters related to classes, please contact the instructor in charge of the following period. (2) Professor Hidaka's contact information: e-mail jt8k-hdk@asahi-net.or.jp (3)Professor Onishi's contact information : Email 0024@o-pat.jp |